Скорость диффузии 38
- испарения молекул 73
- окисления кремния 28
- роста эпитаксиального слоя 21
- травления 66, 70
Слой скрытый 8
Солидус 101
Сольвус 101
Структура КНД 17
- КНС 17, 24
- МДП-транзистора 6
- эпитаксиально-планарного
транзистора 9
Теория Линдхарда-Шарфа-Шиотта 41
Технология гибридная 7, 89
- полупроводниковая 6
Тормозная способность 42
- электронная 42
- ядерная 42
Травители полирующие 66
- селективные 67
Травление 64
- жидкостное 64
- ионное 68
- ионно-химическое 69
- плазмо-химическое 68
Транзистор биполярный 6
- полевой 98
- с диодом Шоттки 97
- эпитакисиально-планарный 9
Трехэлектродная система 88
Уравнение Герца-Кнудсена 73
- Ленгмюра 74
|
|
|
- Клаузиуса-Клапейрона 74
Фотолитография 51
Фоторезист 51
- негативный 54
- позитивный 54
Фоторезиста задубливание 53
- кислотостойкость 55
- нанесение на подложку 52
- проявление 53
- разрешающая способность 55
- светочувствительность 55
- сушка 52
- экспонирование 52
Фотохимические реакции 54
Хемоэпитаксия 16
Химическое осаждение SiO2 30
Эвтектика 101
Электромиграция ионов 98
Электронолитография 58
- проекционная 60
- сканирующая 59
Электроэпитаксия 20
Энергия активации диффузии 32
- химической реакции 67
Эпитаксия 16
- газофазная 20
|
|
|
- жидкофазная 20
- молекулярно-лучевая 22
- парофазная 18
- твердофазная 20
Эффект каналирования 44
Явление сегрегации примесей 13
БИБЛИОГРАФИЧЕСКИЙ СПИСОК
1. Аваев, Н. А. Основы микроэлектроники / Н. А. Аваев, Ю. Е. Наумов, В. Т. Фролкин. - М.:Радио и связь, 1991. - 288 с.
2. Броудай, И. Физические основы микротехнологии / И. Броудай, Дж. Мерей. - М.: Мир, 1985. - 496 с.
3. Готра, З. Ю. Технология микроэлектронных устройств: Справочник / З. Ю. Готра. - М.:Радио и связь, 1991. - 528 с.
4. Ефимов, И. Е. Микроэлектроника: физические и технологические основы, надежность / И. Е. Ефимов, Ю. И. Горбунов, И. Я. Козырь. - М.: Высш. шк., 1986. - 463 с.
5. Иванов - Есипович, Н. К. Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры / Н. К. Иванов - Есипович. - М.: Высш. шк., 1979. - 328 с.
6. Курносов, А. И. Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем / А. И. Курносов, В. В. Юдин. - М.: Высш. шк., 1986. - 368 с.
7. Парфенов, О. Д. Технология микросхем / О. Д. Парфенов. - М.: Высш. шк., 1986. - 320 с.
Пичугин, И. Г. Технология полупроводниковых приборов / И. Г. Пичу-гин, Ю. М. Таиров . - М.: Высш. шк., 1984. - 288 с.
|
|
|
9. Сугано, Т. Введение в микроэлектронику / Т. Сугано, Т. Икома, Е. Такэиси. - М.: Мир, 1988. - 320 с.
10. Таруи, Я. Основы технологии СБИС / Я. Таруи. - М.:Радио и связь, 1985.- 480 с.
11. Тилл, У. Интегральные схемы: материалы, приборы, изготовление / У. Тилл. Дж. Лаксон. - М.: Мир, 1985. - 501 с.
12. Черняев, В. Н. Технология производства интегральных микросхем и микропроцессоров / В. Н. Черняев. - М.: Радио и связь, 1987. – 463 с.
13. Черняев, В. Н. Физико-химические процессы в технологии РЭА / В. Н. Черняев. - М.: Высш. шк., 1987. - 376 с.
Учебное издание
СМИРНОВ Виталий Иванович
ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ТЕХНОЛОГИИ ЭЛЕКТРОННЫХ СРЕДСТВ
Учебное пособие
Корректор ………………..
Подписано в печать …………...
Формат 60´84/16. Бумага писчая. Печать трафаретная.
Усл. печ. л. 6,3. Уч. изд. л. 6,0.Тираж 150 экз. Заказ …..
Ульяновский государственный технический университет
432027, Ульяновск, Северный Венец, 32.
Типография УлГТУ, 432027, Ульяновск, Северный Венец, 32.
Дата добавления: 2018-05-12; просмотров: 312; Мы поможем в написании вашей работы! |
Мы поможем в написании ваших работ!