Некоторые термодинамические данные



В-во

ΔH298 (ккал/моль)

S298 (кал/(К*моль))

GaP

-24,5

12,4

H2

0

31,2

P2

33,8

52,1

Ga2O

-19,7

67,9

H2O

-57,8

45,1

Ga2O3

-240

20,2

Ga

1,34

9,82

Теплофизические характеристики для легирования арсенида галлия марганцем

D0=0,65 см2

Ea=2,49 эВ

k=8,617*10-5 эВ/К

 

Вывод: В ходе данной курсовой работы был смоделирован процесс газофазного осаждения фосфида галлия. Расчёты показали, что интересующий нас интервал температур полностью лежит в области, в которой конкурирующие реакции не протекают. В связи с этим мы имеем большой произвол в выборе как температур, так и влажностей, что весьма удобно при производстве.

Во второй части был смоделирован процесс легирования арсенида галлия марганцем, получая тем самым p-n-переход. Расчёты показали, что глубина залегания p-n-перехода лежит в промежутке 20~50 мкм, что также является неплохим результатом для промышленного производства.

 

 

Список использованной литературы:

[1]: Расчёт газотранспортных и диффузионных процессов в технологии изделий электроники и наноэлектроники: учебное пособие/ Зубко С.П., Медведева Н.Ю., Никитин А.А., Семёнов А.А. – Санкт-Петербург: издательство СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2020. – 32 с. - ISBN 978-5-7629-2656-0

[2]: Журавлёв К.С. Свойства легированных марганцем слоев арсенида галлия, выращенных методом жидкофазной эпитаксии из расплава висмута/ Журавлёв К.С., Шамирзаев Т.С., Якушева Н.А./ Физика и техника полупроводников, 1998, том 32, № 7. - Институт физики полупроводников Сибирского отделения Российской академии наук, 630090 Новосибирск.

[3]: Борубина В.Г. Исследования магнитных свойств в GaAs:Mn, LaSrMnO3 и YIG/ Борубина В.Г.; под руководством Кучинского В.И.: Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе. Санкт-Петербург, 2019. – 187 с.


Дата добавления: 2022-11-11; просмотров: 54; Мы поможем в написании вашей работы!

Поделиться с друзьями:






Мы поможем в написании ваших работ!