Электромагнитные поля на рабочем месте



ПДН на рабочем месте согласно СанПиН 2.2.2/2.4.1340-03.

Согласно нормам СанПиН ПДН[6] за персональным иди рабочим компьютером:

Таблица 5: ПДЗ согласно СанПиН

Напряженность электрического поля

в диапазоне частот 5 Гц — 2 кГц, Е1 25 В/м
в диапазоне частот 2 кГц — 400 кГц, Е2 2,5 В/м

Плотность магнитного потока

в диапазоне частот 5 Гц — 2 кГц, В1 250 нТл
в диапазоне частот 2 кГц — 400 кГц, В2 25 нТл

 

Эти нормы установлены в соответствии с медицинскими показаниями для людей, и они на порядки ниже необходимых уровней для того чтобы обусловить какие-либо мутации микроорганизмовво временных интервалах от 15 до 30 минут. Но в данной работе будет обозреваться возможность мутаций микроорганизмов, с учётом их длительного нахождения в данных условиях. В добавок, на практике, в домашних условиях, данные нормы могут быть превышены, при том в несколько раз.

При измерениях ПДН обычно используется ВЕ-метр-АТ-002. Прибор не является высокоточным и может давать погрешность, которая находится в пределах статистической ошибки.


Рисунок 4: ВЕ-метр-АТ-002

Электромагнитные поля на различных ЭВМ

Источники ЭМП на рабочем месте с ПЭВМ:

Видеодисплейный терминал - монитор персонального компьютера. Это основной источник электромагнитных полей (ЭМП) в широком диапазоне частот. Он также является источником электростатического поля. Именно по этой причине в основе будут браться пробы с мониторов и экранов персональных мобильных средств, так как именно на них вероятность появления развития мутаций намного выше чем на корпусах ввиду большого диапазона ЭМП которые способны длительное время оказывать своё влияние не только непосредственно на структуру ДНК, но и на различные составные элементы клетки, в том числе и на репаративные системы клетки которые в ответе за восстановление первозданной структуры генома после его повреждения.

Системный блок персонального компьютера. На нём будут так же браться пробы, поскольку в системный блок компьютера включено достаточно большое количество деталей имеющих разную электропроводность, сопротивляемость, различную используемую силу тока, которая так же варьируется во времени из-за постоянно меняющихся задач поставляемых пользователем. Пробы так же могут различаться как внутри корпуса, так и снаружи из-за того, что сам корпус может быть выполнен целиком из метала, пластика или быть составным из разных материалов, что в свою очередь может обуславливать различную электропроводность тем самым меняя силу и диапазон ЭМП. При анализе проб в временном интервале от 15 до 30 минут данную разницу можно было бы не учитывать, поскольку за столь короткий промежуток времени он бы могла попасть в статистическую погрешность и вероятнее всего принесла бы дополнительную работу вместо данных, но при данной работе ставится вопрос влияния данных поле при его продолжительном воздействии на бактерий.

Электрооборудование (электропроводка, сетевые фильтры, источники бесперебойного питания, сам блок питания ЭВМ). Различное электрооборудование включённое в корпус ЭВМ и вынесенное за него способно внести так же различный вклад в образование мутаций у клеток из-за процессов, описанных выше. В данной работе их влияние не будет рассмотрено по отдельности. Если разбор, активация и нагрузка различных элементов ПК[7] и представляется возможным, то подобной задачей в случае с смартфонами не представляется возможным по причине отказа большинства их обладателей предоставления своего устройства для подобных манипуляций, а отдельная их закупка и разборка потребует больших затрат, поэтому данный аспект не будет рассматриваться в данной работе

Различные периферийные устройства (принтеры, факсы и прочее). Оборудование данного рода так же имеется в наличии у достаточно большого количества пользователей, поэтому пробы с данных устройств так же будут рассматриваться как опытный материал.

Контролируемые параметры ЭМП на рабочем месте с ПЭВМ:

Переменное ЭМП имеет электрическую и магнитную составляющие, поэтому контроль проводится раздельно по двум показателям:

напряженность электрического поля (Е), в В/м (Вольт-на-метр);

индукция магнитного поля (В), в нТл (наноТесла).

Порядок проведения измерений ЭМП на рабочих местах с ПЭВМ:

Составляется схема помещения, на которую наносятся рабочие места с ПЭВМ и оборудование, оказывающее влияние на электромагнитную обстановку в помещении.Это необходимое условие. В помещениях с большим количеством ЭВМ они могут находится достаточно близко, чтобы создаваемые области полей пересекались и так же оказывали своё влияние. В случае с мобильными устройствами схема составляться не будет. Среднестатистические пользователи не содержат подобные устройства в статическом положении как к примеру ПК и внешнее крупное оборудование.

На каждом рабочем месте фиксируются производитель, модель, серийный номер монитора и другого оборудования. Отмечается наличие защитного экрана на мониторе.

В период проведения измерений в помещении должно быть включено всё электрооборудование.

Измерения выполняются на расстоянии 0.5 м от экрана монитора, на высотах 0.5 м, 1.0 м, 1.5 м.

Если в результате измерений на рабочем месте зафиксировано превышение параметров электрического или магнитного поля в диапазоне №I, то дополнительно измеряются фоновые уровни ЭМП промышленной частоты при выключенном оборудовании. Фоновые уровни не должны превышать допустимых значений, установленных для населения

Некоторые причины повышенного ЭМП на рабочих местах с ПЭВМ:

Отсутствие заземления в помещении. В этом случае возрастает напряженность электрического поля в обоих диапазонах. Как показывает практика, при использовании современных сертифицированных мониторов электромагнитная обстановка на рабочем месте в значительной степени определяется наличием заземления в помещении. Если в помещении присутствует качественное заземление, а напряженность электрического поля в диапазоне № II превышает допустимые уровни, необходимо поменять монитор или обратится к специалисту.

Наличие в помещении сторонних источников ЭМП промышленной частоты (50 Гц): различные электроприборы, проводка и пр. В этом случае возрастают параметры ЭМП в диапазоне №I. Для обнаружения этих источников последовательно включают-отключают каждую единицу электрооборудования в помещении.

Наличие рядом с рабочим местом массивных металлических предметов, которые могут стать пассивными излучателями ЭМП. Данный аспект и становится основополагающим для забора проб вне и внутри корпусов ПЭВМ

Большая скученность рабочих мест с ПЭВМ.

Использование мониторов на базе электронно-лучевой трубки. По возможности, необходимо поменять такие мониторы на жидкокристаллические.

По методикам, перечисленным выше, будет в дальнейшем проводится анализ ЭМП от различного рода ЭВМ и периферии с которой будут сниматься пробы.


Дата добавления: 2018-06-01; просмотров: 1992; Мы поможем в написании вашей работы!

Поделиться с друзьями:






Мы поможем в написании ваших работ!