Методика измерения ЭДС Холла
Непосредственной экспериментальной задачей при холловских исследованиях обычно является измерение ЭДС либо тока Холла и последующий расчет коэффициента Холла.
Величина коэффициента Холла для различных материалов может изменяться в широких пределах. Так, например, для типичных металлов 
~10 
В·см/(A·Гс), так что ЭДС Холла при не слишком больших плотностях тока и напряженности магнитного поля ~10 
Гс составляет всего несколько микровольт. Для полупроводников с концентрацией носителей заряда 10 см 
коэффициент Холла составляет 10 В·см/(A·Гс). В этом случае ЭДС Холла достигает нескольких микровольт, но измерять ее приходится в цепи высокого сопротивления. Поэтому желательно, чтобы метод обеспечивал возможность измерения ЭДС Холла в пределах от 10 
до 10-2 В на образцах полупроводников с удельным сопротивлением от 10 
до 10 
Ом·см. Такого универсального метода со столь широкими возможностями нет.
Существующие методы измерения ЭДС Холла могут быть подразделены следующим образом:
1) метод постоянного поля и постоянного тока;
2) метод постоянного поля и переменного тока;
3) метод переменного поля и постоянного тока;
4) метод переменного поля и переменного тока.
Основная трудность, возникающая при использовании второго, третьего и четвертого методов, связана с необходимостью устранения электромагнитных наводок, сравнимых по величине с ЭДС Холла. Для этого используется достаточно сложная аппаратура. Поэтому эти методы не нашли широкого применения, несмотря на достаточно высокую чувствительность.
|
|
|
Дата добавления: 2015-12-21; просмотров: 13; Мы поможем в написании вашей работы! |
Мы поможем в написании ваших работ!