Нарисовать двухстороннюю дипольно-осевую установку.
Нарисовать установку AA ' MNB ' B .
Какие результаты получают при профилировании установкой AA ' MNB ' B ?
Какие задачи решаются при использование установки AA ' MNB ' B ?
31. Нарисовать характер графиков СЭП с установкой AA ' MNB ' B над тремя различными геоэлектрическими разрезами, различающимися типами геологических структур и соотношениями удельного сопротивления пород.
32. В каких районах рекомендуется применять установку AA ' MNB ' B при профилировании? С неоднородной по мощности и сопротивлению покровной толщей.
33. Для решения каких задач применяют КЭП? Для поисков и картирования крутоподающих и хорошопроводящих геологических образований.
34. Описать установку для комбинированного профилирования? Состоят из двух встречных не симметричных установок AMN и BMN с общим питающим электродом С.
Нарисовать установку для комбинированного профилирования?
36. Что определяется в методе КЭП? 2 определения кажущ сопрот. Одной установкой AMNCбескон, другой BMNCбескон.
37. Что получают в результате профилировании трехэлектродной установкой? 2 графика кажущ сопрот. Проводится совместный анализ этих графиков, который позволяет выявить особенности геоэлектрического строения.
Привести пример графиков комбинированного профилирования над тонким крутопадающим хорошо проводящим пластом, залегающим среди плохо проводящих пород.
39. Характер поведения графиков ρк при положении установки КЭП слева от хорошо проводящего пласта? Ро кажущ от АМН будет больше ро кажущ от бмн.
|
|
|
40. Характер поведения графиков ρк при положении установки КЭП справа от хорошо проводящего пласта? Ро кажущ от АМН будет меньше ро кажущ от бмн.
41. Характер поведения графиков ρк при положении установки КЭП непосредственно над хорошо проводящим пластом? Отмечается пересечение этих графиков, которые называются рудное пересечение.
42. Что такое рудное пересечение при работе методом КЭП? Пересечение графиков ро кажущ при положении установки кэп над хорошо поводящим пластом.
43. Как изображаются графики ρк для обеих установок КЭП? Тем же условным знаком, что и на графике
44. По какой формуле определяется ρк СЭП через ρк КЭП? Ро кажущ амнб= (ро кажущ амн+ро кажущ бмн)/2
45. Почему КЭП является наиболее дорогостоящей модификацией электрического профилирования? Очень громоздкие установки, причем один из питающих электродов отнесен в бесконечность.
46. Почему при профилировании в районах со сложным геоэлектрическим разрезом затрудняется интерпретация результатов профилирования? Условия заземления могут существенно влиять на графики ро каж
|
|
|
47. Для каких целей применяют установку с неподвижными питающими электродами? Для уменьшения влияния неоднородной приповерхностной части разреза на результаты профилирования.
48. Описать вид установки СГ. Питающие электроды А и В оставляют неподвижными, а М и Н перемещают вдоль профилей. Совокупность таких профилей называют планшет.
49. Нарисовать установку СГ для работы в пределах планшета.
50. Какая должна быть длина профиля при съемке срединных градиентов? Не должна превышать 1/3 АВ
51. Какое должно быть расстояние между крайними профилями планшета при съемке срединных градиентов? Не должна превышать 1/3 АВ
52. Как выбирается расстояние между питающими заземлениями при съемке срединных градиентов? Выбирают в соответствии с геологической обстановкой и с требуемой глубиной исследований.
53. Как выбираются разносы измерительных заземлений при съемке срединных градиентов? Размерами изучаемых объектов и детальностью исследований.
54. К какой точке относят величину кажущегося сопротивления при профилировании с неподвижными установками? К центру приемной линии.
55. Из чего состоит установка для дипольного профилирования? Из питающих диполей АВ и приемных МН
56. Основные виды дипольных установок для дипольного профилирования. Осевые, осевые двухсторонние и параллельные осевые.
|
|
|
57. Описать дипольно-осевую установку. Состоит из питающего диполя АВ и приемного МН. Под разносами такой установки понимают расстояние между центром диполей.
58. Описать дипольно-осевую установку с двумя разносами. Этот дает возможность судить о характере геоэлектрического разреза с глубиной.
59. Какое преимущество дипольно-осевой установки с двумя разносами перед дипольно-осевой установкой? Этот дает возможность судить о характере геоэлектрического разреза с глубиной.
60. Описать двухстороннюю дипольно-осевую установку. Имеет 2 питающих диполя, расположенные по обе стороны от премного.
Нарисовать двухстороннюю дипольно-осевую установку.
62. Что определяют с помощью двухсторонней дипольно-осевой установкой? Ро кажущ измеряется дважды. В качестве точки записи применяется середина измерительного диполя.
63. Чем отличается установка для двухстороннего дипольно-осевого профилирования от установки комбинированного профилирования? Отсутствует заземление в бесконечность.
64. Когда применяют профилирование параллельной дипольной установкой? Для площадных исследований с целью геологического картирования.
|
|
|
65. Описать параллельную дипольную установку. Состоит из питающего диполя АВ, который перемещается по центральному профилю и трех, параллельных ему измерительных диполей, которые перемещаются по центральному и параллельным профилям.
Дата добавления: 2023-01-08; просмотров: 21; Мы поможем в написании вашей работы! |
Мы поможем в написании ваших работ!