Membrane technologies in the industrial water supplying
Мембранные установки позволяют получать воду высокого качества, в том числе и сверхчистую, что находит применение в следующих отраслях промышленности:
- энергетика: генерация энергии и подпитка тепловых сетей;
- пищевая промышленность (производство напитков);
- фармацевтическое производство (взять из Рябчикова)
- микроэлектроника (Орлов)
- диализ
Membrane technologies in power generation
Из Рябчикова
Membrane technologies in the food and beverage industries
Из Рябчикова
Membrane technologies in pharmacy
Из Рябчикова
Extra-pure water production for the microelectronics
Во второй половине 70-х годов в электронной промышленности особую
актуальность приобрела проблема получения особо чистых технологических сред. В технологии производства больших интегральных схем (БИС) и сверхбольших интегральных схем (СБИС) более 30% из всех операций составляет отмывка поверхностей формируемых структур особо чистой водой.
К рассматриваемому периоду времени средний выход годных изделий (БИС и СБИС) в нашей стране составлял менее 10%, и даже в таких развитых странах как США и Япония не превышал 60%. Обобщение опыта производства (БИС и СБИС) со всей очевидностью свидетельствовало о доминирующей роли степени чистоты используемой в технологическом процессе деионизованной воды.
Марки особо чистой воды.
В процессах производства изделий электронной техники применяется
деионизованная вода трех марок разной степени чистоты:
|
|
|
марки В – вода, получаемая из исходной, путем предварительной подготовки и деионизации на установках централизованной очистки воды;
марки Б – вода, получаемая из воды марки В, путем финишной деионизации и очистки от частиц размером более 0,2 мкм;
марки А – вода, высшей степени чистоты, получаемая из воды марки Б, путем финишной деионизации с применением систем стерилизации, микрофильтрации, ультрафильтрации и обратного осмоса. Требования к деионизованной воде должны соответствовать значением, приведенным в таблице Х:
Таблица Х – Требования к качеству деионизированной воды
| № | Параметры воды | Ед.изм | Марка воды | ||
| А | Б | В | |||
| 1 | Удельное сопротивление при t 20±2оС, не менее | МОм*см | 5 | 17 | 18 |
| 2 | Содержание органических веществ (перманганатная окилсяемость), не более | мгО2/дм3 | 1,0 | 0,6 | 0,2 |
| 3 | Содержание кремниевой кислоты (по SiO2), не более | Мг/дм3 | 0,05 | 0,01 | 0,01 |
| 4 | Содержание Fe, не более | Мг/дм3 | 0,01 | 0,005 | 0,002 |
| 5 | Содержание Cu, не более | Мг/дм3 | 0,003 | 0,002 | 0,002 |
| 6 | Содержание микрочастиц, не более | Шт/дм3 | 60 | 20 | 2 |
| 7 | Минимальный размер частиц, не более | Мкм | 5 | 1 | 1 |
| 8 | Содержание микроорганизмов, не более | Колоний/см3 | 10 | 2 | 1 |
Технологическая схема процесса
|
|
|
Технологическая схема подготовки особо чистой воды для микроэлектроники представлена на рис.12.1.
1 - клапан соленоидный; 2 - насосная станция из 2 насосов; 3, 4 – фильтр обезжелезивающий; 5, 6 – фильтр-дехлоратор; 7, 8 – микрофильтр мультикартриджный; 9 – установка УФ-дезинфекции в комплекте с дозатором реагента; 10, 11 – установка обратного осмоса; 12,13 – фильтр катионитовый; 15, 16 – фильтр анионитовый; 14, 17 – систаема приготовления и подачи реагентов; 18 – емкость с воздушным фильтром; 19 – насосная станция из 2 насосов; 20 – установка электродеионизации; 21 – фильтр смешанного действия (ФСД) косметический; 22, 27 – установка УФ-дезинфекции; 23 – емкость с воздушным фильтром; 24 - насосная станция из 2 насосов; 25 – теплообменник пластинчатый; 26 – мембранный дегазатор; 28, 29 – ФСД полировочный; 30 – МА с картриджами 0,45 мкм; 31 – стерилизующий фильтр с картриджами 0,2 мкм; 32 – анализатор общего углерода 4; 33 – анализатор микрочастиц; 34 – анализатор кремния; 35, 36 – локальная система финишной очистки воды.
Рисунок 1Х – Принципиальная схема процесса автономного участка подготовки деионизированной воды марки А с условными обозначениями.
|
|
|
Дата добавления: 2020-04-25; просмотров: 86; Мы поможем в написании вашей работы! |
Мы поможем в написании ваших работ!