Магнитные поля (МП) промышленной частоты 50 Гц.



Нормирование манитной составляющей электромагнитного поля 50 Гц на рабочих местах персонала дифференцировано в зависимости от времени пребывания в электромагнитном поле.

Предельно допустимые уровни напряженности периодических (синусоидальных) МП устанавливаются для условий общего и локального воздействия и приведены в таблице 2.

 

 

Таблица 2.

ПДУ воздействия периодического магнитного поля частотой 50 Гц

Время пребывания (ч)

Допустимые уровни МП, Н [А/м] / В[мкТл] при воздействии

Общем Локальном
≤ 1 1600/200 6400/8000
2 800/1000 3200/4000
4 400/500 1600/2000
8 80/100 800/1000

 

Электромагнитные поля диапазона частот ≥ 10-30 кГц.

Контроль уровня электромагнитных полей диапазона частот ≥ 10-30 кГц должен осуществляться на рабочих местах персонала, обслуживающего производственные установки, генерирующее, передающее и излучающее оборудование радио- и телевизионных центров, радиолокационных станций, физиотерапевтические аппараты и пр.

Оценка и нормирование ЭМП осуществляется раздельно по напряженности электрического (Е), в В/м, и магнитного (Н), в А/м, полей в зависимости от времени воздействия.

ПДУ напряженности электрического и магнитного полей при воздействии в течение всей смены составляют 500 В/м и 50 А/м соответственно.

ПДУ напряженности электрического и магнитного полей при продолжительности воздействия до 2 ч за смену составляют 1000В/м и 100 А/м соответственно.

Электромагнитные поля диапазона частот ≥ 30 кГц – 300 ГГц.

Контроль уровня электромагнитных полей диапазона частот ≥ 30 кГц – 300 ГГц должен осуществляться на рабочих местах персонала, обслуживающего производственные установки, генерирующее, передающее и излучающее оборудование радио- и телевизионных центров, радиолокационных станций, физиотерапевтические аппараты и пр.

Оценка и нормирование ЭМП диапазона частот ≥ 30 кГц – 300 ГГц осуществляется по величине энергетической экспозиции (ЭЭ)

Энергетическая экспозиция в диапазоне частот ≥ 30 кГц – 300 МГц рассчитывается по формулам:

ЭЭе = Е2 х Т, (В/м)2 х Ч ;

ЭЭн = Н2 х Т, (А/м)2 х Ч ;

где Е – напряженность электрического поля (В/м);

Н – напряженность магнитного поля (А/м);

Т – время воздействия за смену (ч).

Энергетическая экспозиция в диапазоне частот ≥ 300 МГц – 300 ГГц рассчитывается по формуле:

ЭЭе = ППЭ х Т,

где ППЭ – плотность потока энергии (Вт/м2, мкВт/см2).

ПДУ энергетических экспозиций на рабочих местах за смену представлены в таблице 3.

Таблица 3.

ПДУ энергетических экспозиций ЭМП диапазона частот ≥ 30 кГц – 300 ГГц

Параметр

ЭЭпду в диапазонах частот (МГц)

≥ 0,03 – 3,0 ≥ 3,0 – 30,0 ≥ 30,0 – 50,0 ≥ 50,0 – 300,0 ≥ 300,0 – 30000,0
ЭЭе, (В/м)2 х Ч 20000 7000 800 800 -
ЭЭн, (А/м)2 х Ч 200 - 0,72 - -
ЭЭппэ, (мкВт/см2) х Ч - - - - 200

 

Максимальные допустимые уровни напряженности электрического и магнитного полей, плотности потока энергии ЭМП не должны превышать значений, представленных в таблице 4.

Таблица 4.

Максимальные ПДУ напряженности и плотности потока энергии ЭМП диапазона частот ≥ 30 кГц – 300 ГГц

Параметр

Максимально допустимые уровни в диапазонах частот (МГц)

≥ 0,03 – 3,0 ≥ 3,0 – 30,0 ≥ 30,0 – 50,0 ≥ 50,0 – 300,0 ≥ 300,0 – 30000,0
Е, В/м 500 300 80 80 -
Н, А/м 50 - 3,0 - -
ППЭ, мкВт/см2 - - - - 1000 5000*

* - для условий локального облучения кистей рук

 

Электромагнитные поля, создаваемые ПЭВМ на рабочих местах.

Временные допустимые уровни ЭМП, создаваемых ПЭВМ на рабочих местах пользователей, регламентированы СанПиН 2.2.2/2.4.1340-03 и приведены в таблице 5.

Таблица 5.

Временные допустимые уровни ЭМП, создаваемых ПЭВМ на рабочих местах

Наименование параметров

ВДУ

Напряженность электрического поля

в диапазоне частот 5 Гц – 2 кГц 25 В/м
в диапазоне частот 2 кГц – 400 кГц 2,5 В/м

Плотность магнитного поля

в диапазоне частот 5 Гц – 2 кГц 250 нТл
в диапазоне частот 2 кГц – 400 кГц 25 нТл

Напряженность электростатического поля

15 кВ/м

 

Требования к организации контроля и методам измерения параметров электромагнитных полей

Измерения выполняются при работе источника с максимальной мощностью.

Измерения уровней ЭМП на рабочих местах должны осуществляться после выведения работника из зоны контроля.

Не допускается проведение измерений при наличии атмосферных осадков, а также при температуре и влажности воздуха, выходящих за предельные рабочие параметры средств измерений.

При гигиенической оценке уровней ЭМП на рабочем месте определяющим является наибольшее из всех зарегистрированных значений.

Электростатические поля

Контроль напряженности электростатических полей в пространстве проводится путем покомпонентного измерения полного вектора напряженности или измерения модуля этого вектора.

При профессиональном воздействии напряженность электростатических полей контролируется на высоте 0,5; 1,0 и 1,7 м (рабочая поза «стоя») и 0,5; 0,8 и 1,4 м (рабочая поза «сидя») от опорной поверхности.

Контроль напряженности ЭСП должен осуществляться на постоянных рабочих местах персонала или, в случае отсутствия постоянного рабочего места, в нескольких точках рабочей зоны, расположенных на разных расстояниях от источника, в отсутствие работающего.

При гигиенической оценке напряженности ЭСП на рабочем месте определяющим является наибольшее из всех зарегистрированных значений.

Постоянные магнитные поля

Контроль уровней ПМП должен производиться путем измерения значений напряженности магнитного поля (Н) или магнитной индукции (В) на постоянных рабочих местах персонала или, в случае отсутствия постоянного рабочего места, в нескольких точках рабочей зоны, расположенных на разных расстояниях от источника ПМП при всех режимах работы источника или только при максимальном режиме.

Измерения проводят на высоте 0,5; 1,0 и 1,7 м (рабочая поза «стоя») и 0,5; 0,8 и 1,4 м (рабочая поза «сидя») от опорной поверхности.

Контроль уровней ПМП для условий локального воздействия должен производиться на уровне конечных фаланг пальцев кистей, середины предплечья, середины плеча. Определяющим является наибольшее значение измеренной напряженности.

В случае непосредственного контакта рук человека измерения магнитной индукции ПМП производится путем непосредственного контакта датчика средства измерения с поверхностью магнита.


Дата добавления: 2018-11-24; просмотров: 281; Мы поможем в написании вашей работы!

Поделиться с друзьями:






Мы поможем в написании ваших работ!