Явление смачивания. Краевой угол смачивания. Свойства тонких пленок.
Явления смачивания и несмачивания относятся к капиллярным явлениям. Капиллярными явлениями называют подъем или опускание жидкости к трубках с малым диаметром. Смачивание – это подъем жидкостей по капиллярам. Несмачивание – это опускание жидкости по капиллярам.
Жидкость поднимается по капиллярам до тех пор, пока сила тяжести не сравняется по модулю с результирующей сил поверхностного натяжения, т.е. не станет верным равенство
Высота столба жидкости рассчитывается по формуле:
При полном смачивании, когда высота столба жидкости будет равна:
При полном несмачивании , высота h < 0. Это значит, что уровень жидкости в капилляре будет ниже уровня жидкости в сосуде.
На поверхности стекла вода образует тонкую пленку, а ртуть собирается в капли. Это происходит потому, что сила притяжения молекул ртути друг к другу больше силы притяжения молекул ртути к молекулам стекла. Сила притяжения молекул воды друг к другу меньше силы притяжения молекул воды к молекулам стекла.
Вывод: если молекулы жидкости притягиваются к телу сильнее чем друг к другу, то жидкость смачивает тело. Если же наоборот – то жидкость не смачивает тело.
Смачивание, поверхностное явление, наблюдаемое при контакте жидкости с твердым телом в присутствии третьей фазы-газа (пара) или другой жидкости, которая не смешивается с первой (так называемое избирательное смачивание). Характерная особенность смачивание-наличие линий контакта трех фаз (линии смачивание).
|
|
Основные термодинамические характеристики смачивания - равновесный краевой угол смачивания q0, работа адгезииWa, теплота смачивания qW. Равновесный краевой угол смачивание определяется наклоном поверхности жидкости(например, капли) к смоченной ею поверхности твердого тела; вершина угла находится на линии смачивание Равновесный краевой угол определяется уравнением Юнга:
cosq0 = (ss-ssl)/ssl,
где ss и ssl-соответствующе удельные свободные поверхностные энергии твердого тела на границе с газом и в контакте со смачивающей жидкостью, sl-поверхностное натяжение жидкости.
Тонкие плёнки (англ. thin films) — тонкие слои материала, толщина которых находится в диапазоне от долей нанометра (моноатомного слоя) до нескольких микрон.
Тонкие плёнки могут быть твёрдыми или жидкими (реже — газообразными). Состав, структура и свойства тонких плёнок могут отличаться от таковых для объемной фазы, из которой образовалась тонкая плёнка. К твёрдым тонким пленкам относятся оксидные плёнки на поверхности металлов и искусственные плёночные покрытия, формируемые на различных материалах с целью создания приборов микроэлектроники, предотвращения коррозии, улучшения внешнего вида и т. п.
|
|
Получение и свойства Тонких пленок.
Нанесение тонких плёнок на подложку может осуществляться различными методами, наиболее часто используемые в научных исследованиях методы:
§ CVD-процесс,
§ PVD-процессы, в том числе
§ вакуумное термическое распыление.
Оказалось, что объекты, имеющие столь малые размеры, кардинально меняют свои свойства. Например, у столь малых объектов меняется температура плавления, степень переохлаждения и межплоскостное расстояние по сравнению с массивными объектами.
Феномологическая термодинамика объясняет столь необычные свойства увеличением роли поверхности с уменьшением объекта, ведь при уменьшении размера тела его объём уменьшается пропорционально r33 , а площадь поверхности — r2. Соответственно отношение V/S ведёт себя как 1/r.
Благодаря этому силы поверхностного натяжения, которые в массивных образцах не играют существенной роли, в нанообъектах становятся существенными. А поскольку силы поверхностного натяжения действуют в приповерхностном слое, их действие можно уподобить приложению внешнего давления, которое, как известно, может изменить как температуру плавления, так и межплоскостные расстояния.
|
|
С тонкими плёнками связаны такие явления, как технологии получения высокого вакуума, процессы и различные механизмы формирования пленок, многокомпонентные системы, технологические аспекты напыления, методы исследований, получения подложек и др. Исследование данных объектов имеет решающее значение для совершенствования микроэлектронных устройств и для науки в целом.
Дата добавления: 2018-02-18; просмотров: 1767; Мы поможем в написании вашей работы! |
Мы поможем в написании ваших работ!